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多 工 藝 復 合 式 乾 泵

---ADP/ADS 系列

---多種工藝、小巧、可靠

ADP/ADS系列2

     ADP/ADS系列2產品的四種型號可滿足不同真空要求，環境清潔的工藝應用可選擇LM型，輕型或中型應用要求可選擇P型，H型可供苛刻要求的工藝環境選擇。許多來自半導體工業的主要制造商已經選擇這一產品，這一選擇使他們大大縮短瞭計劃外停工期，從而節約瞭運行成本，提高瞭利潤率。

特點：

處理能力可靠性高

• 寬交叉槽可容納大量粉塵和顆粒
• 精確而閉合的溫控系統、高操作溫度以及從進口到出口的氣體溫度的線性增長
• 各級采取立式抽吸防止吹掃腔中粉塵聚集 

主要應用於半導體制造

• 小巧：ADP/ADS系列2隻有約390mm寬
• 潔凈：阿爾卡特真空泵無摩擦無須油潤滑，也就無粉塵污染的風險。
• 安靜：阿爾卡特真空泵所有型號均含一臺靜音裝置，無須再安裝外部消聲裝置。
• 兼容半導體S2 

價廉物美

• 工作壓強以及極限壓強下低能耗
• ADP/ADS系列2運行溫低，用水量非常小。
• 用戶可輕松設定氮凈化水平，應用於清潔環境無須凈化。 

典型應用工藝：

• ADP 122 LM, ADS 602 LM 
  真空進片室，傳送室，物理氣相沉淀，鍍膜
• ADP 122 P, ADS 602 P, ADS 1202 P, ADS 1802 P
  灰化，玻璃拆封，電介質，線蝕刻，註入源，介質化學氣相沉淀
• ADS 602 H, ADS 1202 H, ADS 1802 H
  等離子增強化學氣相淀積，低壓化學氣相沉淀
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