基體金屬:Gr1,Gr2,(TA1,TA2)Ta,Nb 工作電流范圍:<11500A/m2 硫酸濃度范圍:<60%溫度范圍:<60℃ 氟離子濃度:<50mg/L 塗覆金屬:IrO2+Ta2+X 貴金屬含量:25-115g/ m2 PH 值:1-12 形 狀:板狀特 點: 防性能高,電流效率高,工作壽命長,電療重量輕,電療失去活性以後,基體可以修復,電流密度大,生產效率高。應 用: 金屬制箔、高速電鍍、輔助陽極 ,陰極保護、有機物合成,酸性水電解,金屬表麵處理、電滲析,貴金屬電解制取,水平電鍍,脈沖電鍍,稀,貴金屬電解制取。
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