高純金屬鉻、高純鉻粉
High-puritychromium metal, high purity chromiummetalpowder
用途:濺射靶材、物理氣相沉積、高溫合金.
Uses: sputtering target, physical vapor deposition, high temperature alloys.
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粒度size | 200-325目或按需加工,200-325meshoron-demandprocessing | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
包裝packing | 25公斤/袋,100公斤/桶,25kg/bag,100 kg/ barrel |
新手教學
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