磁控濺射鍍膜機

該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發三種技術融合一體，結合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表麵鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專註研發，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統，並開發出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點，解決瞭人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用於手錶、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜（DLC）。

　　1、磁控濺射的原理是基於陰極輝光放電理論，把陰極表麵磁場擴展到接近工件表麵，提高瞭濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強瞭表麵光澤度。
　　2、電弧等離子體蒸發源性能可靠，在優化陰極及磁場結構鍍膜時可在30A電流下工作，鍍膜膜層和基底界麵產生原子擴散，又具有離子束輔助沉積的特點。

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