主營產品或服務：靶材;陶瓷靶材;金屬靶材;合金靶材;蒸發鍍膜料;蒸發舟;坩堝;基片;晶體材料;粉末材料;sputtering target;磁控濺射靶材;高純金屬;氧化物靶材;氟化物靶材;硫化物靶材;半導體材料;貴金屬;太陽能材料

關鍵詞：鉻靶材 合金靶材 高純靶材 陶瓷靶材 貴金屬 鉻塊 鉻絲 鉻粉 鉻棒 濺射靶材

優勢產品:
1.磁控濺射靶材（高純單質金屬靶材,高純合金靶材,陶瓷靶材,陶瓷復合靶材,稀土靶材,貴金屬靶材）
2.真空鍍膜料（高純金屬膜料,高純化合物膜料,貴金屬膜料）
3.稀土金屬（蒸餾稀土金屬,還原稀土金屬）
4.鍍膜基片（Si矽基片,氧化矽基片,氟化物基片）
5.納米化合物粉末,納米金屬粉末,高純試劑,晶體材料等

ng>MAT-CNng>ng>（國材科技）ng>提供各種金屬靶材，合金及中間合金靶材，陶瓷靶材和其他混合物靶材。

ng>磁控濺射靶材成型方法：ng>ng>ng>

低熔點的材料一般采用真空熔煉後澆鑄成型，材料的成型方式根據產品性能和客戶的不同要求進行選擇。一般金屬和合金材料產品熔點比較低時，采用真空熔煉後澆鑄，再進行鍛軋等工藝消除氣孔，當然有效的熱處理細化晶粒均勻材質是非常必要的。

高熔點的材料（或脆性大的材料）采用熱壓，或熱等靜壓成型，也有些采用冷等靜壓成型然後燒結。本公司提供的各種靶材，密度高，晶粒均勻，使用壽命長等優勢。

ng>濺射鍍膜應用領域：ng>ng>ng>

濺射鍍膜應用領域廣泛，主要用於包裝鍍膜，裝飾鍍膜，建築玻璃鍍膜、汽車玻璃鍍膜、低輻射玻璃鍍膜，平麵顯示器，光通訊/光學工業，光數據存儲工業，光數據存儲工業，磁數據存儲工業光學鍍膜，半導體領域，自動化，太陽能，醫療，自潤滑膜層，電容器鍍膜，其它功能性鍍膜等。

ng>背板供應，邦定服務：ng>

國材科技提供各種靶材背板，包括無氧銅，鉬，鋁，不銹鋼等材料。同時提供靶材與背板的焊接服務金屬化處理邦定服務。背板供應：無氧銅、鋁、鈦、不銹鋼、鉬背板。
ng>磁控濺射靶材分類：ng>

ng>1.ng>ng>金屬濺射鍍膜靶材(單質金屬靶材，超高純金屬靶材)：ng>ng>ng>

工藝一般采用熔煉和粉末冶金的方法制作，然後進行鍛造，軋制，熱處理，機械加工等工藝。我公司完成的各類金屬靶材產品，選材適當，材質均勻，晶粒細小，品質穩定，價格合理。我公采用先進的冷坩堝磁懸浮技術，熔煉靶材純度最高達到99.999%，冶煉過程中完全避免瞭污染現象。尺寸規格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤600mm， 厚度≥1mm）矩形靶，薄片靶，臺階片靶 (長度≤1000mm， 寬度≤600mm， 厚度≥1mm)環狀靶，管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >2mm )（點擊進入詳細參數列表）金屬鋁，金屬銻，金屬鉍，金屬鎘，硼靶材，碳靶材，熱解石墨靶材，稀土金屬鈰，金屬鉻靶材，金屬鈷，金屬銅，稀土金屬鏑，稀土金屬鉺，稀土金屬銪，屬鎳，難熔金屬鈮，貴金屬鈀，貴金屬鉑，金屬鐠，金屬錸，貴金屬釕，金屬釤，硒靶材，金屬鈧，金屬銀靶材，金屬矽，稀土金屬釓，半導體鍺，黃金靶材，金屬鉿，稀土金屬鈥，金屬銦，金屬銥靶材，金屬鐵，金屬鑭，金屬镥，金屬鎂，金屬錳靶材，難熔金屬鉬，稀土金屬釹，金難熔金屬鉭，稀土金屬銩，金屬錫，金屬鈦，難熔金屬鎢，金屬釩，稀土金屬鐿，稀土金屬釔，金屬鋯，金屬鋅。

ng>2.ng>ng>合金靶材，中間合金靶材：ng>ng>ng>

合金及中間合金靶材工藝一般采用熔煉和粉末冶金的方法制作，然後進行鍛造，軋制，熱處理，機械加工等工藝。每種合金一般擁有特殊的性能，國材科技合金靶材制作工藝精良，品質優異，價格合理。尺寸規格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤600mm， 厚度≥1mm）矩形靶，薄片靶，臺階片靶 (長度≤1000mm， 寬度≤600mm， 厚度≥1mm)管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >2mm )合金濺射鍍膜靶材鋁銅合金 (Al-Cu)，鋁就鉻合金(Al-Cr)，鋁鎂合金(Al-Mg)，鋁矽合金 (Al-Si)，鋁銀合金 (Al-Ag)，鈰釓合金 (Ce-Gd)，鈰釤合金 (Ce-Sm)，銀銅合金 (Ag-Cu)，銀錫合金(Ag-Sn)，鉭鋁合金(Ta-Al)，鋱鏑鐵合金 (TbDyFe)，鋱鐵合金(TbFe)，鈦鋁合金靶材(TiAl)，鈦鎳合金 (TiNi)，鈦鉻合金 (TiCr)，鎢錸合金(WRe)，鎢鈦合金(WTi)，鋯鋁合金(ZrAl)，鋯鐵合金 (Zr-Fe)，鋯鎳合金 (Zr-Ni)，鋯鈮合金(ZrNb)，鋯鈦合金(ZrTi)，鋯釔合金 (ZrY)，鋅鋁合金(ZnAl)，鉻矽合金(Cr-Si)，鈷鉻合金 (Co-Cr)，鈷鐵合金 (Co-Fe)，鈷鐵硼合金(Co-Fe-B)，銅鈷合金(Cu/Co)，銅鎵合金(Cu-Ga)，銅銦合金 (CuIn)，銅鎳合金(Cu-Ni)，銅鋯合金（Cu-Zr)，鉿鐵合金(HfFe)，鐵硼合金 (Fe-B)，鐵碳合金 (Fe-C)，鐵錳合金 (Fe-Mn)，銥錳合金(Ir-Mn)，銥錸合金(Ir-Re)，銦錫合金 (In-Sn)，鉬矽合金 (Mo-Si)，鎳鋁合金(Ni-Al)，鎳鉻合金 (Ni-Cr)，鎳鉻矽合金 (Ni-Cr-Si)，鎳鐵合金 (Ni-Fe)，鎳鈮鈦合金 (NiNbTi)，鎳鈦合金 (Ni-Ti)，鎳釩合金 (Ni-V)，釤鈷合金 (Sm-Co)，鋅鎂合金(ZnMg)。

ng>3.ng>ng>陶瓷靶材，金屬化陶瓷靶材：ng>

一般采用熔融和粉末冶金的方法制作尺寸規格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤300mm， 厚度≥1mm） 矩形靶，薄片靶，臺階片靶 (長度≤600mm， 寬度≤300mm， 厚度≥2mm)管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >3mm ) （點擊進入詳細參數列表）硼化物陶瓷濺射靶材硼化二鉻 (Cr2B)，硼化鉻 (CrB)，二硼化鉻 (CrB2)，三硼化五鉻 (Cr5B3)， 硼化鐵 (FeB)，二硼化鉿陶瓷靶材 (HfB2)，六硼化鑭 (LaB6)，硼化二鉬 (Mo2B)，碳化二鎢 (W2C)，碳化釩 (VC)，碳化鋯 (ZrC)氮化物陶瓷濺射靶材 氮化鋁陶瓷靶材 (AlN)，氮化硼陶瓷靶材 (BN)，氮化鎵陶瓷靶材(GaN)，氮化鉿陶瓷靶材(HfN)，氮化鈮陶瓷靶材 (NbN)，氮化矽陶瓷靶材 (Si3N4)，氮化鉭陶瓷靶材 (TaN)，氮化鈦陶瓷靶材 (TiN)，氮化釩陶瓷靶材 (VN)，氮化鋯陶瓷靶材 (ZrN)。氟化物陶瓷濺射靶材 氟化鋁(AlF3)，氟化鋇 (BaF3)，氟化鎘 (CdF2)，氟化鈣 (CaF2)，氟化鈰 (CeF3)，氟化鏑 (DyF3)，氟化鉺(ErF3)，氟化鉿 (HfF4)，氟化鉀 (KF)，氟化鑭 (LaF3)，氟化鉛(PbF2)，五硼化二鉬 (Mo2B5)，硼化鈮 (NbB)，二硼化鈮 (NbB2)，硼化鉭 (TaB)，Tantalum Boride (TaB2)，二硼化鈦(TiB2)，硼化二鎢 (W2B)，硼化鎢 (WB)，硼化釩 (VB)，二硼化釩 (VB2)，二硼化鋯 (ZrB2) 。 碳化物陶瓷濺射靶材碳化四硼(B4C)，二碳化三鉻 (Cr3C2)，碳化鉿(HfC)，碳化二鉬 (Mo2C)，碳化鈮 (NbC)，碳化矽陶瓷靶材 (SiC)，碳化鉭 (TaC)，碳化鈦(TiC)，碳化鎢 (WC)，氟化鋰(LiF)，氟化鐠 (PrF3)，氟化鎂(MgF2)，氟化釹 (NdF3)，氟化釤 (SmF3)，氟化鈉（NaF)，鋁氟酸鈉(冰晶石)靶材(Na3AlF6)，氟化鍶(SrF2)，氟化釷 (ThF4)，氟化釔 (YF3)，氟化鐿(YbF3)。氧化物陶瓷濺射靶材氧化鋁 (Al2O3)，氧化銻(Sb2O3)，氧化銻摻錫(ATO)，鈦酸鋇(BaTiO3)，氧化鉍(Bi2O3)，氧化鈰(CeO2)，氧化銅(CuO)，氧化鉻(Cr2O3)，氧化鏑(Dy2O3)，氧化鉺(Er2O3)，氧化鉺(Eu2O3)，氧化釓(Gd2O3)，氧化鎵(Ga2O3)，氧化鍺GeO2)，二氧化鉿(HfO2)，氧化鈥(Ho2O3)，氧化銦(In2O3)，氧化銦錫(ITO)，三氧化二鐵(Fe2O3)，四氧化三鐵(Fe3O4)，氧化鑭(La2O3)，鈦酸鉛(PbTiO3)，鋯酸鉛(PbZrO3)，鈮酸鋰(LiNbO3)， 鐵酸镥(Lu3Fe5O12)，氧化镥(Lu2O3)，氧化鎂(MgO)，氧化鉬(MoO3)，氧化釹(Nd2O3)，氧化鐠(Pr6O11)，鈦酸鐠(Pr(TiO2)2)，氧化鐠(Pr2O3)，氧化釤(Sm2O3)，氧化鈧(Sc2O3)，二氧化矽(SiO2)，一氧化矽(SiO)，鈦酸鍶(SrTiO3)，鋯酸鍶(SrZrO3)，五氧化二鉭(Ta2O5)，氧化鋱(Tb4O7)，氧化碲(TeO2)，氧化釷(ThO2)， 氧化銩(Tm2O3)，二氧化鈦(TiO2)，一氧化鈦(TiO)，五氧化三鈦(Ti3O5)，三氧化二鈦陶瓷靶材(Ti2O3)，二氧化錫(SnO2)，一氧化錫(SnO)，三氧化鎢(WO3)，五氧化二釩(V2O5)，釔鋁石榴石(YAG)Y3Al5O12，三氧化二鐿 (Yb2O3)，氧化釔(Y2O3)，氧化鋅(ZnO)，摻鋁氧化鋅(ZnO:Al)，氧化鋯(ZrO2)(未摻雜)，氧化鈣穩定氧化鋯 (ZrO2-5-15wt%CaO)，氧化釔穩定氧化鋯（ZrO2：Y2O3)，AZO靶材，ITO靶材，ATO靶材，YSZ靶材。硒化物陶瓷濺射靶材硒化鉍陶瓷靶材 (Bi2Se3)， 硒化鎘濺射靶材 (CdSe)，硒化銦濺射靶材 (In2Se3)，硒化鉛濺射靶材 (PbSe)，硒化鉬濺射靶材 (MoSe2)，硒化鈮濺射靶材 (NbSe2)，硒化鉭濺射靶材 (TaSe2)，硒化鎢濺射靶材 (WSe2)，硒化鋅濺射靶材 (ZnSe)。矽化物陶瓷濺射靶材矽化三鉻陶瓷濺射靶材 (Cr3Si)，二矽化鉻陶瓷濺射靶材 (CrSi2)，二矽化鈷陶瓷靶材(CoSi2)， 二矽化鉿陶瓷靶材 (HfSi2)，二矽化鉬陶瓷靶材 (MoSi2)，二矽化鈮陶瓷靶材(NbSi2)，二矽化鉭陶瓷靶材 (TaSi2)，三矽化五鉭陶瓷靶材 (Ta5Si3)，二矽化鈦陶瓷靶材 (TiSi2)，三矽化五鈦陶瓷靶材(Ti5Si3)，二矽化鎢陶瓷靶材(WSi2)，矽化三釩陶瓷靶材(V3Si)，二矽化釩陶瓷靶材 (VSi2)，二矽化鋯陶瓷靶材 (ZrSi2)。硫化物陶瓷濺射靶材 硫化銻陶瓷靶材(Sb2S3)，硫化砷陶瓷靶材(As2S3)，硫化鎘陶瓷靶材 ( CdS)，硫化鐵陶瓷靶材 (FeS)，硫化鉛陶瓷靶材 (PbS)，硫化鉬陶瓷靶材(MoS2)，硫化鈮陶瓷靶材(NbS1.75)，硫化鉭陶瓷靶材 (TaS2)，硫化鎢陶瓷靶材(WS2)，硫化鋅陶瓷靶材 (ZnS)。碲化物陶瓷濺射靶材 碲化鎘陶瓷靶材 (CdTe)，碲化鉛陶瓷靶材 (PbTe)，碲化鉬陶瓷靶材 (MoTe2)，碲化鈮陶瓷靶材 (NbTe2)，碲化鉭陶瓷靶材 (TaTe2)，碲化鎢陶瓷靶材 (WTe2)，碲化鋅陶瓷靶材 (ZnTe)，碲化銦陶瓷靶材(InTe)。其他陶瓷靶材 摻鉻一氧化矽陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)，AZO靶材，ITO靶材，ATO靶材，YSZ靶材，LSMO靶材， LCMO靶，YBCO靶材，YBC靶材。

ng>4.ng>ng>其他混合物靶材，特殊成分靶材，客戶訂制靶材：ng>

可以根據客戶需求，經可行性分析後，進行特殊成分的實驗，試制，生產等活動，國材科技對客戶所有特殊需求進行保密。尺寸規格：圓片靶，圓柱靶，臺階圓靶（(直徑≤300mm， 厚度≥1mm） 矩形靶，薄片靶，臺階片靶 (長度≤1200mm， 寬度≤300mm， 厚度≥1mm)管狀靶( 外徑< 300mm， 壁厚 >2mm )