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[23810-0050-0001] 金屬電阻材料、濺射靶材、電阻薄膜及其制造方法
[摘要] 本發明提供一種具有比Ni-Cr-Al-Si系合金更優良的高溫穩定性，并且電阻溫度系數幾乎為0的金屬電阻材料。采用含有Al：1.0～15.0重量％、稀土類元素：0.01～0.5重量％，其余部分實質上由Cr及Ni構成，Cr/Ni重量比為0.15～1.1的濺射靶材，用濺射法形成的電阻薄膜，對該電阻薄膜在大氣中，于200℃～500℃、1～10小時的條件下進行熱處理。
[23810-0091-0002] 變性淀粉口服結腸靶向控釋薄膜包衣材料及其制備方法和應用
[摘要] 本發明公開了一種變性淀粉口服結腸靶向控釋性能的薄膜包衣材料及其制備方法和應用。該制備方法如下：將變性淀粉加入到包衣溶劑中，配成含變性淀粉質量百分比為2～5％的溶液或混懸液，然后添加用量為變性淀粉質量10～35％的增塑劑，制得包衣液，即變性淀粉口服結腸靶向控釋薄膜包衣材料。本發明首次將變性淀粉成功地應用制備口服結腸靶向控釋性能的薄膜包衣材料，提供了新的薄膜包衣載體材料并解決了現有包衣載體材料對活性功能成分控釋速度慢、無法避免在上消化道出現活性功能成分泄漏以及活性功能成分釋放不完全的不足之處。本發明既拓展了變性淀粉的醫用價值，同時又使一些活性功能成分提高了功能效果開辟了應用途徑。
[23810-0150-0003] 一種具有多元靶材的濺鍍靶
本發明關于一種具有多元靶材的濺鍍靶(Sputtering Targets)，該濺鍍靶應用于薄膜太陽能電池制程的真空濺鍍機，其包括：一基座靶與復數種靶材，而該復數種靶材排列、黏結于該基座靶的表面；當真空鍍膜制程中需混濺鍍多元靶材時，藉由本發明濺鍍靶的設計，不須多元靶材預先制成混合物靶材的前置作業，即可形成多元靶材混濺鍍，更可讓使用后剩余的靶材易于個別回收，提高靶材使用的經濟性。
[23810-0020-0004] 透明導電膜用靶、透明導電材料、透明導電玻璃及透明導電薄膜
[摘要] 本發明涉及一種透明導電膜材料的燒結塊，包含該燒結塊的濺射靶，及由該靶制造的透明導電玻璃和導電膜，該透明導電材料包括一定原子比的氧化銦、氧化錫和氧化鋅，并任選包括如釕、鉬和釩等特定金屬的氧化物。該燒結塊通過濺射等方法在膜形成中提供一種良好穩定性和有效生產率的材料，該透明導電玻璃和導電膜具有優良透明度和傳導性，在電極制造中顯示良好加工性，也適合于在制造有機電致發光元件中，用于制造顯示改進了空穴注入效率的透明電極。
[23810-0047-0005] 可延長靶材使用壽命的平面磁控濺射靶
[摘要] 本實用新型涉及一種可提高靶材利用率，延長靶材使用壽命的磁控濺射靶，適用于物理氣象沉積磁控濺射真空鍍膜技術。所述磁控濺射靶包括靶材、靶背板、絕緣墊、靶陰極框架、陰極擋板，磁鐵和導磁極靴調整墊，可移動的磁鐵和導磁調整墊可調整靶材表面磁場的均勻性和等離子體的均勻性，使等離子體刻蝕靶材的速率降低，使靶材端部和中間部位被刻蝕之差減小，從而提高靶材利用率，大幅度降低生產產品的成本，節約生產資源，提高產品競爭力。
[23810-0053-0006] 一種用于制作磁性直流磁控濺射鈷靶材的方法
[摘要] 本發明涉及一種用于制作磁性直流磁控濺射鈷靶材的方法，用于直流磁控濺射的鈷靶材的制作過程得到高磁透率的鈷靶材，其特定是包括以下步驟：一準備高純度的鈷原料；二將鈷原料融化澆鑄成鈷鑄錠；三鑄錠檢驗；四將鈷鑄錠切割成小的片狀毛坯；五將毛坯鈷錠進行熱壓、冷軋和熱處理的循環過程，在上述循環過程中，在垂直于毛坯鈷錠的方向加上一個強磁場，制成鈷靶材元件；六在步驟五的鈷靶材元件的靶面上加工成型，形成鈷靶材部件；七將步驟六形成的鈷靶材部件結合到背板上，制成最終的鈷靶材。本方向的磁誘生織構，提高磁透率；并且工藝控制難度降低重復性好，使傳統工藝設備得到利用，因此極為實用。
[23810-0086-0007] 濺射靶材
[摘要] 本發明提供由向Ag中添加特定少量的P使之合金化而成的Ag基合金構成的具有高反射率且耐熱性優異的濺射靶材。
[23810-0014-0008] 氧化銦/氧化錫濺射靶材及其制造方法
[摘要] 本發明涉及一種用于濺射鍍膜的氧化銦／氧化錫（ＩＴＯ）靶材及其制造方法，其特征在于：原料粉末中氧化銦和氧化錫的質量比為９∶１，平均粒徑３０～２００nm，純度９９．９９％；冷等靜壓力為２００～２８０ＭＰa，保壓時間１０分鐘；熱等靜壓溫度為１１００～１３００℃，保溫時間０．５～６小時，氣氛壓力為１００～１２０ＭＰa；采用專門設計的包套和容器；制造出高密度、高純度、大尺寸的ＩＴＯ靶材。該方法生產效率高、成本低。
[23810-0177-0009] 真空鍍膜機用成型鍍膜靶材
[摘要] 本實用新型涉及一種適用于真空鍍膜機使用的鍍制各種光學薄膜的成型鍍膜靶材。該靶材采用與真空鍍膜機坩堝內壁形狀相符的成型塊狀結構，其結構形狀為：柱狀、圓臺狀、錐臺狀、環狀、半環狀、扇環狀、盤狀，是由超細粉狀的鍍膜材料經高壓成型后真空燒結而制成。該靶材具有密度高、晶粒細小均勻的特點，由于采用的是整體成型塊狀，因此使用時間長，能夠適應長時間地鍍制多層光學薄膜，而且在真空鍍膜后，膜厚均勻一致，重現性好，便于實現穩定批量生產。該鍍膜靶材在使用中更換方便，能夠提高鍍膜效率，提高成品率，降低生產成本，特別適用于高品質、高精度光學產品的鍍膜。
[23810-0101-0010] 大尺寸陶瓷濺射靶材的熱壓燒結成型方法
[摘要] 本發明公開了一種大尺寸陶瓷濺射靶材的熱壓燒結成型方法，其方法步驟如下：A)稱取制作靶材的粉體原料；B)按制作靶材的直徑要求選定同直徑的模具；C)將模具放進上加壓、固定下壓頭基準面的熱壓爐爐體中；D)采用振動漏斗法裝料，測量并保證模具內各局部的粉體堆積高度相同；E)熱壓并附加保護氣氛，啟動壓機，開始加壓，使上壓頭開始下移，在溫度650℃～2100℃、壓力15～40Mpa環境下保溫保壓20min-60min，直至靶材相對密度達到設計值；F)采用附加保壓工藝保壓，進一步制得濺射靶材的燒結坯體。
[23810-0107-0011] 濺射靶用靶材的制造方法
[23810-0037-0012] 一種以適配體作為分子識別元件的碳納米管晶體管生物傳感器及其用于檢測靶材料的方法
[23810-0062-0013] 從銦錫氧化物廢靶材中回收銦的方法
[23810-0128-0014] 一種用于靶向治療的高分子材料載藥系統及其制備方法和用途
[23810-0156-0015] 一種濺射鍍膜用高硅含量硅鋁合金靶材及其制備方法
[23810-0119-0016] Fe-Co系靶材及其制造方法
[23810-0046-0017] 采用電弧加熱靶材蒸積制備大面積薄膜的裝置
[23810-0030-0018] 含有金屬材料的構件，物理氣相沉積靶，薄膜，和形成金屬構件的方法
[23810-0032-0019] 一種LaGaO3基固體電解質靶材的制備方法
[23810-0026-0020] 以氣噴粉末制作鋁合金濺鍍靶材的方法
[23810-0045-0021] 利用電流直接加熱靶材蒸發制備大面積薄膜的裝置
[23810-0173-0022] 一種生產泡沫鎳金屬化的濺射陰極靶材結構
[23810-0015-0023] 一種磁光盤記錄介質靶材制造方法
[23810-0043-0024] 靶材以及該靶材所制造的薄膜
[23810-0102-0025] 對向靶材式濺鍍裝置
[23810-0009-0026] Ag合金膜以及Ag合金膜形成用噴濺靶材
[23810-0007-0027] 濺射靶材
[23810-0070-0028] 濺射靶材和透明導電薄膜
[23810-0031-0029] Co—Fe—Zr系合金濺射靶材及其制造方法
[23810-0042-0030] 濺鍍靶材的制造方法
[23810-0010-0031] 用于形成柵氧化物膜的硅化鉿靶材及其制備方法
[23810-0104-0032] 透明導電膜、透明導電膜制造用燒結體靶、透明導電性基材以及使用其的顯示裝置
[23810-0019-0033] 對向異材磁控濺射靶制備合金薄膜工藝方法
[23810-0130-0034] 缺陷修補裝置及靶材結構
[23810-0122-0035] PVD用筒狀靶材
[23810-0063-0036] 一種抗腫瘤磁靶向緩釋載體鐵炭復合材料及其制備方法
[23810-0016-0037] 環保可降解飛碟射擊靶制造材料組合物及其在制造飛碟射擊靶上的用途
[23810-0093-0038] 絕緣性靶材及其制造方法、導電性復合氧化膜及設備
[23810-0061-0039] 物理汽相淀積靶及制造金屬材料的方法
[23810-0023-0040] 高密度銦錫氧化物靶材及其制造方法
[23810-0078-0041] 光記錄介質的反射層形成用銀合金濺射靶材
[23810-0113-0042] 具有腫瘤靶向作用的普魯蘭多糖載體材料及其制備方法
[23810-0054-0043] 具有改進表面結構的濺射靶材
[23810-0052-0044] 一種可提高靶材利用率的磁控濺射靶
[23810-0179-0045] 一種制造濺射靶材的擠壓模鍛擠壓模具
[23810-0180-0046] 盤狀磁性靶材PTF的測試裝置
[23810-0100-0047] 用于靶向輸送的包含細胞和磁性材料的組合物
[23810-0132-0048] SiOx:Si濺射靶材及其制造及使用方法
[23810-0166-0049] 反射膜或半透反射膜用的薄膜及濺射靶材以及光記錄介質
[23810-0090-0050] 一種涂層用靶極材料釬焊工藝方法
[23810-0154-0051] 銅銦鎵硒或銅銦鋁硒太陽能電池吸收層靶材及其制備方法
[23810-0085-0052] 銀合金、其濺射靶材料及其薄膜
[23810-0164-0053] 一種用于薄膜太陽能電池的氧化鋅鋁靶材的制備方法
[23810-0055-0054] 制備Mo合金制靶材料的方法
[23810-0095-0055] 一種制備濺射靶材料的方法
[23810-0056-0056] 濺射靶材料及其生產方法
[23810-0039-0057] 導電氧化物陶瓷濺射靶材的熱壓制備方法
[23810-0017-0058] 無環境污染可降解飛碟靶制造材料
[23810-0088-0059] 濺鍍靶材
[23810-0077-0060] 用于改進的磁性層的濺射靶材料
[23810-0151-0061] TFT LCD電極薄膜制備所用的靶材及靶材和電極薄膜制備方法
[23810-0105-0062] 可消耗材料的厚板及物理氣相沉積靶材料
[23810-0137-0063] 高真空離子束濺鍍靶材利用率增強裝置
[23810-0152-0064] 一種納米均相ITO粉制備ITO靶材的方法
[23810-0141-0065] 含貴金屬濺鍍靶材的制作方法
[23810-0175-0066] 真空離子濺鍍靶材
[23810-0065-0067] 高密度ITO靶材及其制造方法
[23810-0068-0068] 形成鈦基和鋯基混合金屬材料的方法和濺射靶
[23810-0138-0069] 一種大功率X線管用WMo石墨復合陽極靶材的制備方法
[23810-0142-0070] 一種氧化銦錫靶材的生產方法
[23810-0170-0071] 高強度光記錄介質保護膜形成用濺鍍靶材
[23810-0079-0072] 采用鈦與鋁材料的混合物涂覆的襯底,制備該襯底的方法和鈦與鋁金屬的陰極靶材
[23810-0003-0073] 濺射法生產高穩定性金屬膜電阻器用的高阻靶材制造方法
[23810-0116-0074] 一種用于可轉動靶材濺射設備的端塊
[23810-0162-0075] 一種由具有不同輸出性能特征的激光器提供質量一致的靶材料去除的方法
[23810-0103-0076] 靶材料及其在濺射過程中的應用
[23810-0123-0077] 等離子體濺射靶材裝置及其制造方法
[23810-0002-0078] 一種鋅鎵氧化物陶瓷靶材及其制備方法和應用
[23810-0034-0079] 金屬靶材與靶托的連接方法
[23810-0174-0080] 濺射式鍍膜機用靶材結構
[23810-0112-0081] 電子鏢靶線材導引結構
[23810-0094-0082] 絕緣性靶材及其制造方法、絕緣性復合氧化膜及裝置
[23810-0096-0083] 導電薄膜或其保護層用的合金靶材及其制造方法
[23810-0087-0084] 具有互補斜邊以于其間形成傾斜間隙的多靶材牌
[23810-0111-0085] 激光等離子EUV光源、靶材構件、膠帶構件、靶材構件的制造方法、靶材的提供方法以及EUV曝光裝置
[23810-0051-0086] 合金靶材磁控濺射法制備CoSi2薄膜的方法
[23810-0025-0087] 磁光記錄靶材及其生產工藝
[23810-0058-0088] 用于反射型平面顯示器的反射膜及濺鍍靶材的合金材料
[23810-0158-0089] 熱等靜壓法生產ITO靶材的方法
[23810-0074-0090] 透明導電膜用靶、透明導電材料、透明導電玻璃及透明導電薄膜
[23810-0018-0091] 含混合稀土元素高阻濺射靶材
[23810-0081-0092] 高純度鉿材料、由同種材料構成的靶和薄膜以及高純度鉿的制造方法
[23810-0098-0093] 一種制造濺射靶材的模鍛工藝及其模鍛擠壓模具
[23810-0110-0094] 垂直磁記錄介質軟磁性底層用鈷基合金靶材的制造方法
[23810-0072-0095] 氧化物燒結體、濺射靶材、透明導電性薄膜及其制造方法
[23810-0157-0096] 電弧離子鍍方法以及該方法中使用的靶材
[23810-0080-0097] 高耐熱性鋁合金配線材料和靶材
[23810-0181-0098] 可均勻鍍膜的靶材裝置
[23810-0134-0099] 材料混合物、濺射靶、該濺射靶的制備方法以及該材料混合物的用途
[23810-0121-0100] 用于襯底處理室的處理配件和靶材
[23810-0073-0101] 半反射膜或反射膜，光學信息記錄介質和濺射靶材
[23810-0146-0102] 一種磁控濺射玫瑰金靶材及其制備方法
[23810-0120-0103] 磁靶向藥物緩控釋載體材料及其制備方法和用途
[23810-0076-0104] 納米肝靶向生物降解藥物載體材料的制備方法
[23810-0133-0105] 一種大面積靶材的壓力焊接方法
[23810-0163-0106] BiFeO3靶材及薄膜的制備方法
[23810-0109-0107] 一種含有摻雜劑元素的石墨靶材的制備方法
[23810-0108-0108] 高完整性濺射靶材以及其批量制造方法
[23810-0048-0109] 一種靶向性吸附型活性炭纖維材料及其制備方法和栓型產品
[23810-0005-0110] 透明導電薄膜用靶、透明導電薄膜及其制造方法、顯示器用電極材料、有機電致發光元件和太陽能電池
[23810-0115-0111] 一種用于承載可轉動的濺射靶材的扁平端塊
[23810-0178-0112] 一種磁控濺射鐵磁材料的靶材結構
[23810-0038-0113] 特別用于濺射靶、管狀陰極等的制造的基于銅-銦-鎵合金的鍍膜材料
[23810-0097-0114] 多層膜金屬化的靶材
[23810-0027-0115] 金屬濺鍍靶材的制造方法
[23810-0092-0116] 透明導電膜用靶、透明導電材料、透明導電玻璃及透明導電薄膜
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[23810-0057-0118] 鋅鋁氧化物陶瓷靶材表面背銦方法
[23810-0148-0119] 一種適于紅外光靶向治療癌癥的納米材料制備方法
[23810-0118-0120] 濺鍍靶材
[23810-0106-0121] 用于濺射腔室的靶材和工藝套件組件
[23810-0069-0122] 使用高電阻硅化物靶材生長硅化物的工藝
[23810-0145-0123] 多孔疊層金屬或合金濺射靶材的制備方法
[23810-0139-0124] 于激光處理期間的即時的靶材表面輪廓追蹤
[23810-0021-0125] 用于制備透明導電薄膜的鋅鋁氧化物靶材
[23810-0117-0126] 軟磁性靶材
[23810-0004-0127] 無磁屏蔽型鐵磁性靶材濺射陰極
[23810-0024-0128] 金屬氧化物的制法、形成用該金屬氧化物的金屬氧化物薄膜用靶子材料及其制法、以及金屬氧化物薄膜的制法
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[23810-0059-0130] 導電薄膜用的合金靶材及制作方法
[23810-0067-0131] 濺射靶材
[23810-0135-0132] 透明導電薄膜制備所用的靶材及導電薄膜和電極制造方法
[23810-0008-0133] 透明導電性薄膜及其制造方法和制造用燒結體靶及透明導電性基體材料或有機電發光元件
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[23810-0049-0135] 光信息記錄用鋁合金反射膜及其形成用靶材、記錄介質
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