ng>用途：ng>

LZ-Ⅱ離子濺射機是一種小型鍍膜裝置，可用作掃描電鏡、電子探針等機器進行試樣制備，是開展教學科研實驗的必備機器。

ng>鍍膜原理與結構：ng>

LZ-Ⅱ離子濺射機鍍膜基本原理是基於荷能正離子轟擊靶電療產生濺射現象，靶被濺射出來的中性原子沉淀於基臺上樣品表麵成膜，形成導電層。

該離子濺射機為二極結構，以基臺和樣品架為正電療與機器外殼相連並接地，濺射靶電療為負電療（加負高壓），它們被安裝在玻璃罩的真空腔內，當腔內達到一定真空度，在負高壓的作用下發生輝光放電產生等離子體，其中正離子在電場加速下，獲得足夠能量轟擊負電療上的靶麵，靶麵被濺射原子沉淀於基臺的樣品表麵形成導電膜，以供上述機器分析。

ng>技術參數：ng>

ng>1ng>ng>、型號：ng>

1、真空腔：￠150×12   硼酸矽質玻璃

2、濺射靶尺寸：￠55×0.3

3、基臺：   ￠50  6-8個樣品

4、極間距調節范圍20-40mm

5、濺射電壓：  -2000V-0  DC連續可調

   濺射電流0-30 mA

6、定時器：0-99分數字顯示

7、真空測量：1×10⁵-1.0×10^-1pa  數字顯示，具有真空保護鎖設置。

8、控制系統：單片機控制，完成真空自動測量、顯示、定時器倒計時功能以及自動完成鍍膜程序。

9、真空泵：2L/S二級旋片式直聯機械泵，極限真空度6×10^-1pa 

10、充氣閥：金屬微調針型閥   保護氣體  99.9%純度氬氣（推薦）

10、外形尺寸：長354mm ×高216mm ×深340mm

11、電源：AC 220V  50HZ

ng>特點：ng>

1、人性化設計，整體性好；

2、單片機控制，操作方便簡潔；

3、用戶可根據實驗需要自由設置濺射操作的工藝參數，使用靈活、方便；

4、機器有真空鎖保護設置，使機器可靠性安全性好；

5、本產品已獲得國傢專利，專利號：201220093483.0

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