型號:100ml | 加工定制:否 | 類型:磨砂膏 |
材質:23 | 適用范圍:laser | 規格:100 |
步驟 1-針對輕度污染(灰塵、纖維微粒)進行柔性清潔在繼續下麵的清潔步驟之前,先用一個吹氣氣囊吹掉光學元件表麵散落的污染物。如果這一步沒有去除污染,請繼續執行步驟 2。 |
步驟 2-針對輕度污染(污漬、指印)進行柔性清潔用丙酮或異丙醇酒精浸潤一個未使用的棉簽或棉球。用濕棉輕輕擦拭光學元件的表麵。請勿用力摩擦。在表麵拖動濕棉,控制拖動速度,使濕棉後麵留下的液體恰好能立即蒸發。如此將不會留下條痕。如果這一步沒有去除污染,請繼續執行步驟 3。 |
步驟 2 (備用方法)“拖動法” –針對輕度污染進行柔性清潔
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步驟 3 –針對中度污染(唾液,油)進行中等強度的清潔用蒸餾白醋浸潤一個未使用過的棉簽或棉球。用濕棉擦以輕微的壓力拭光學元件的表麵。用一個乾凈的乾棉簽擦去光學元件上多餘的蒸餾醋。隨即用丙酮浸潤一個棉簽或棉球輕輕擦拭光學元件的表麵,去除所有的醋酸。如果這一步沒有去除污染物,請繼續執行步驟 4。 |
步驟 4 –對受到嚴重污染(潑濺物)的光學元件進行強力清潔警告:步驟 4 絕不能用於新的或未使用過的激光光學元件。隻有光學元件在使用中被嚴重污染,且在執行步驟 2 或 3後未能取得可以接受的清潔效果的情況下才能使用這一步驟。 受到嚴重污染和較臟的光學元件,可能需要使用光學拋光化合物去除具有吸收作用的污染層。 |
步驟 4(續)B. |
步驟 4(續)C. |
步驟 4(續)D. |
結束語最後一個步驟是,在良好的光線下,以黑色背景為襯托,仔細檢查光學元件的表麵。如果還有可見的拋光殘渣,請根據需要多次重復步驟 4B-4D。 |
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