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[26092-0003-0001] 無磁屏蔽型鐵磁性靶材濺射陰極
[摘要] 本發明提供了一種磁控濺射陰極及其濺射方法，其特征在于：法蘭(28)安裝于真空室壁上，在法蘭(28)上有密封膠圈(26)和固定螺栓孔(27)，基片(37)置于陰極上方進行濺射鍍膜；對于具有軸對稱的圓形磁控濺射陰極，鐵磁性靶材由中心圓形靶材(21’)和外側環型靶材(21)組成，中心圓形靶材與外側環形靶材之間有5-60mm的間隙，濺射在間隙附近發生；靶材(21，21’)、磁極(22，22’)、磁鐵(23，23’)和磁極背板(38)構成閉合磁路；其中磁極和磁極背板采用高飽和磁化強度材料；靶體(33)采用具有良好導熱性的材料制造。在濺射過程中，等離子體中的離子對靶材表面的轟擊，將有大量的熱能產生，在靶體內構造出冷卻水道(39)。本發明的優點在于：克服了鐵磁性靶材對磁路的屏蔽效應；增加一致性，易于安裝和
[26092-0093-0002] 等離子體濺射靶材裝置及其制造方法
[摘要] 本發明公開了一種等離子體濺射靶材裝置及其制造方法，包含：靶材；粘著層，粘著層具有多數顆粒(partical)，且粘著層具有第一側與第二側，第一側與靶材粘著；以及背板，背板與粘著層的第二側粘著。此顆粒在背板加熱過程時形成，或在背板上形成多數突起物且粘著層的高度大于等于這些突起物的高度，因粘著層具有顆粒不同于靶材的組成材質且濺擊率與靶材不同，靶材擊穿時因顆粒或突起物暴露于等離子體下引發異常放電現象，借此檢測此現象并實時切斷電源，避免背板擊穿。
[26092-0094-0003] 具有可施加至靶材的射頻電源的物理氣相沉積等離子體反應器
一種物理氣相沉積反應器包含一真空腔體、一耦接到腔體上的真空泵、一耦接到腔體的工藝氣體入口以及一耦接到工藝氣體入口的工藝氣體源；其中該真空腔體包含一側壁、一頂板與接近腔體底面的一晶片支撐底座。金屬濺射靶材位于頂板上且高壓直流源耦接到濺射靶材上。射頻等離子體源功率產生器耦接到金屬濺射靶材上，且具有適合激發運動電子的頻率。優選地，晶片支撐底座包含靜電吸盤，以及耦接到晶片支撐底座上的一射頻等離子體偏壓功率產生器，其具有適于將能源耦合到等離子體離子的頻率。優選地，具有直徑超過約0.5英寸的固體金屬射頻饋入桿(feed rod)與金屬靶材嚙合，此射頻饋入桿軸向延伸于靶材上方且穿過頂板并耦接到射頻等離子體源功率產生器上。
[26092-0007-0004] 用于形成柵氧化物膜的硅化鉿靶材及其制備方法
[摘要] 本發明涉及由HfSi0.05-0.37
[26092-0037-0005] 金屬電阻材料、濺射靶材、電阻薄膜及其制造方法
[摘要] 本發明提供一種具有比Ni-Cr-Al-Si系合金更優良的高溫穩定性，并且電阻溫度系數幾乎為0的金屬電阻材料。采用含有Al：1.0～15.0重量％、稀土類元素：0.01～0.5重量％，其余部分實質上由Cr及Ni構成，Cr/Ni重量比為0.15～1.1的濺射靶材，用濺射法形成的電阻薄膜，對該電阻薄膜在大氣中，于200℃～500℃、1～10小時的條件下進行熱處理。
[26092-0081-0006] 高完整性濺射靶材以及其批量制造方法
[摘要] 公開了一種制造金屬板和濺射靶的方法。此外，進一步公開了由本發明方法制得的產品。本發明優選提供一種在金屬產品表面具有減少的或最少紋路的產品，該產品具有許多優點。
[26092-0206-0007] 可均勻鍍膜的靶材裝置
[摘要] 一種可均勻鍍膜的靶材裝置，包括：一安裝于一濺鍍設備中的遮蔽盒，及一安裝于遮蔽盒中的靶材。該遮蔽盒具有一遮蔽板，該遮蔽板上具有一上下延伸的長槽孔，且該長槽孔的上下兩端寬度大于中央部位的寬度。該靶材安裝于該遮蔽盒中，靶材顯露遮蔽盒外的面積也是呈兩端寬度大于中央部位寬度的形狀。本實用新型靶材裝置借由該遮蔽盒的遮蔽板遮蓋該靶材，使靶材受氣體離子撞擊時，降低中央部位受撞擊的次數與頻率，使整體靶材上下兩端與中央部位受撞擊的次數較為平均，致使濺鍍于所述基板上的薄膜厚度較為均勻。
[26092-0066-0008] 濺鍍靶材
[摘要] 本發明提供可盡量不產生濺鍍時的電弧放電現象和噴濺現象的濺鍍靶材。對濺鍍靶材的用于濺鍍的部分進行了摩擦攪拌處理，即使是含碳的鋁類合金的濺鍍靶材或大型的濺鍍靶材，也可以可靠地抑制濺鍍時的電弧放電現象和噴濺現象。
[26092-0202-0009] 真空鍍膜機用成型鍍膜靶材
[摘要] 本實用新型涉及一種適用于真空鍍膜機使用的鍍制各種光學薄膜的成型鍍膜靶材。該靶材采用與真空鍍膜機坩堝內壁形狀相符的成型塊狀結構，其結構形狀為：柱狀、圓臺狀、錐臺狀、環狀、半環狀、扇環狀、盤狀，是由超細粉狀的鍍膜材料經高壓成型后真空燒結而制成。該靶材具有密度高、晶粒細小均勻的特點，由于采用的是整體成型塊狀，因此使用時間長，能夠適應長時間地鍍制多層光學薄膜，而且在真空鍍膜后，膜厚均勻一致，重現性好，便于實現穩定批量生產。該鍍膜靶材在使用中更換方便，能夠提高鍍膜效率，提高成品率，降低生產成本，特別適用于高品質、高精度光學產品的鍍膜。
[26092-0077-0010] 靶材料及其在濺射過程中的應用
[摘要] 本發明涉及利用濺射來制備用于日照控制和吸收層的保護層的靶材料。這種靶材料由摻雜鈦的硅組成。利用該靶材料制備的保護層可被加熱而不使其性能顯著改變。因此它也適合于涂覆加熱隨后彎曲的玻璃。
[26092-0140-0011] CIS系粉末的制作方法及其靶材的制作方法
[26092-0048-0012] 從銦錫氧化物廢靶材中回收銦的方法
[26092-0142-0013] 一種鈦鋁合金靶材快速熱壓燒結成型工藝
[26092-0208-0014] 濺鍍靶材的冷卻裝置
[26092-0167-0015] 銅靶材的加工方法
[26092-0040-0016] 一種用于制作磁性直流磁控濺射鈷靶材的方法
[26092-0182-0017] 一種多靶材X光管
[26092-0061-0018] 靜電紡絲法制備低密度多孔二氧化錫納米纖維激光靶材料
[26092-0005-0019] 濺射靶材
[26092-0043-0020] 濺射靶材料及其生產方法
[26092-0064-0021] 濺射靶材
[26092-0050-0022] 濺射靶材
[26092-0104-0023] 高真空離子束濺鍍靶材利用率增強裝置
[26092-0169-0024] 超高純鋁超細晶粒濺射靶材的制備方法
[26092-0029-0025] 一種鈦鋁合金靶材的粉末冶金制備方法
[26092-0058-0026] 采用鈦與鋁材料的混合物涂覆的襯底,制備該襯底的方法和鈦與鋁金屬的陰極靶材
[26092-0065-0027] 具有互補斜邊以于其間形成傾斜間隙的多靶材牌
[26092-0099-0028] 復合型相變化記錄薄膜以及用以制造該薄膜的靶材與方法
[26092-0205-0029] 盤狀磁性靶材PTF的測試裝置
[26092-0166-0030] 鋁靶材的加工方法
[26092-0084-0031] 激光等離子EUV光源、靶材構件、膠帶構件、靶材構件的制造方法、靶材的提供方法以及EUV曝光裝置
[26092-0090-0032] Fe-Co系靶材及其制造方法
[26092-0019-0033] 鋁系合金靶材的制造方法及用該方法得到的鋁系合金靶材
[26092-0041-0034] 具有改進表面結構的濺射靶材
[26092-0113-0035] 一種磁控濺射玫瑰金靶材及其制備方法
[26092-0136-0036] 一種YBCO超導薄膜靶材的制備方法
[26092-0105-0037] 一種大功率X線管用WMo石墨復合陽極靶材的制備方法
[26092-0027-0038] 一種以適配體作為分子識別元件的碳納米管晶體管生物傳感器及其用于檢測靶材料的方法
[26092-0013-0039] 用于制備透明導電薄膜的鋅鋁氧化物靶材
[26092-0015-0040] 高密度銦錫氧化物靶材及其制造方法
[26092-0010-0041] 氧化銦/氧化錫濺射靶材及其制造方法
[26092-0028-0042] 導電氧化物陶瓷濺射靶材的熱壓制備方法
[26092-0163-0043] 銅靶材表面的處理方法
[26092-0207-0044] 高真空離子束濺鍍靶材利用率增強裝置
[26092-0024-0045] 金屬靶材與靶托的連接方法
[26092-0086-0046] 一種用于承載可轉動的濺射靶材的扁平端塊
[26092-0191-0047] 濺射式鍍膜機用靶材結構
[26092-0188-0048] 一種分布式熔焊實現靶材與背板連接的方法
[26092-0051-0049] 使用高電阻硅化物靶材生長硅化物的工藝
[26092-0012-0050] 含混合稀土元素高阻濺射靶材
[26092-0023-0051] 一種金屬靶材與靶托的連接方法
[26092-0189-0052] 具有提高的壽命和濺射均勻度的濺射靶材
[26092-0083-0053] 垂直磁記錄介質軟磁性底層用鈷基合金靶材的制造方法
[26092-0209-0054] 用于濺鍍設備更換靶材的輔助裝置
[26092-0111-0055] 一種制備銅銦硒濺射靶材的工藝
[26092-0103-0056] TFT LCD電極薄膜制備所用的靶材及靶材和電極薄膜制備方法
[26092-0038-0057] 合金靶材磁控濺射法制備CoSi2薄膜的方法
[26092-0192-0058] 真空離子濺鍍靶材
[26092-0072-0059] 多層膜金屬化的靶材
[26092-0035-0060] 可延長靶材使用壽命的平面磁控濺射靶
[26092-0210-0061] 一種可提高靶材利用率的平面磁控濺射陰極
[26092-0055-0062] 濺射金剛石靶材及其制造方法
[26092-0092-0063] PVD用筒狀靶材
[26092-0030-0064] 濺鍍靶材的制造方法
[26092-0026-0065] 一種Li摻雜ZnO陶瓷靶材制備工藝
[26092-0164-0066] 一種彩色交流等離子體顯示器用燒結體靶材成型用顆粒的混料方法
[26092-0162-0067] 靶材的制作方法
[26092-0080-0068] 濺射靶用靶材的制造方法
[26092-0112-0069] 多孔疊層金屬或合金濺射靶材的制備方法
[26092-0144-0070] 靶材與背板的焊接結構及方法
[26092-0071-0071] 導電薄膜或其保護層用的合金靶材及其制造方法
[26092-0132-0072] 高強度光記錄介質保護膜形成用濺鍍靶材
[26092-0068-0073] 絕緣性靶材及其制造方法、導電性復合氧化膜及設備
[26092-0141-0074] 一種半導體及顯示器用高純銅濺射靶材的制造方法
[26092-0031-0075] 靶材以及該靶材所制造的薄膜
[26092-0075-0076] 大尺寸陶瓷濺射靶材的熱壓燒結成型方法
[26092-0032-0077] 采用渦流加熱靶材的共蒸發制備薄膜的裝置
[26092-0018-0078] 金屬濺鍍靶材的制造方法
[26092-0201-0079] 一種多元素濺射靶材結構
[26092-0069-0080] 絕緣性靶材及其制造方法、絕緣性復合氧化膜及裝置
[26092-0057-0081] 光記錄介質的反射層形成用銀合金濺射靶材
[26092-0129-0082] 反射膜或半透反射膜用的薄膜及濺射靶材以及光記錄介質
[26092-0085-0083] 濺鍍靶材的制造方法
[26092-0118-0084] 半導體裝置、其制造方法以及用于該制造方法的濺射用靶材
[26092-0131-0085] 透明導電膜及其制造方法以及用于其制造的濺射靶材
[26092-0122-0086] 熱等靜壓法生產ITO靶材的方法
[26092-0161-0087] 磁控濺射鍍膜系統中提高平面靶材利用率的方法
[26092-0042-0088] 制備Mo合金制靶材料的方法
[26092-0046-0089] 導電薄膜用的合金靶材及制作方法
[26092-0119-0090] 銅銦鎵硒或銅銦鋁硒太陽能電池吸收層靶材及其制備方法
[26092-0123-0091] 用于熱等靜壓法制備靶材的包套及制備靶材的方法
[26092-0148-0092] 靶材的制作方法
[26092-0059-0093] 高耐熱性鋁合金配線材料和靶材
[26092-0184-0094] 靶材熱處理方法
[26092-0097-0095] 太陽能電池銅銦鎵硒薄膜關鍵靶材及其制備方法
[26092-0139-0096] 靶材與背板的焊接結構及方法
[26092-0082-0097] 一種含有摻雜劑元素的石墨靶材的制備方法
[26092-0106-0098] 于激光處理期間的即時的靶材表面輪廓追蹤
[26092-0181-0099] 靶材的檢測方法
[26092-0009-0100] 濺射玻璃鍍膜用鎳基變形合金靶材
[26092-0150-0101] 一種鍺摻雜的AZO靶材及其制備方法
[26092-0091-0102] 用于襯底處理室的處理配件和靶材
[26092-0073-0103] 一種制造濺射靶材的模鍛工藝及其模鍛擠壓模具
[26092-0076-0104] 對向靶材式濺鍍裝置
[26092-0067-0105] 濺鍍靶材牌的電子束焊接
[26092-0095-0106] 金屬雙層結構體及其制造方法以及使用該方法的濺射靶材的再生方法
[26092-0025-0107] 制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝
[26092-0004-0108] 銦錫氧化物靶材的制備方法
[26092-0034-0109] 采用電弧加熱靶材蒸積制備大面積薄膜的裝置
[26092-0135-0110] 高純硼化鋯/硼化鉿粉體及其超高溫陶瓷靶材的制備方法
[26092-0053-0111] 氧化物燒結體、濺射靶材、透明導電性薄膜及其制造方法
[26092-0204-0112] 一種制造濺射靶材的擠壓模鍛擠壓模具
[26092-0060-0113] 鉭基化合物的陶瓷濺鍍靶材及其應用方法和制備方法
[26092-0078-0114] 可消耗材料的厚板及物理氣相沉積靶材料
[26092-0096-0115] 一種p型半導體摻鎳氧化銅靶材及其制備方法
[26092-0049-0116] 高密度ITO靶材及其制造方法
[26092-0134-0117] 反射膜或半透反射膜用的薄膜及濺射靶材以及光記錄介質
[26092-0056-0118] 用于改進的磁性層的濺射靶材料
[26092-0170-0119] 含貴金屬的金屬基陶瓷復合靶材的制造方法
[26092-0116-0120] TFT LCD電極薄膜制備所用的靶材及靶材和電極薄膜制備方法
[26092-0107-0121] 一種制備超細晶粒高純度金屬鎳靶材的方法
[26092-0052-0122] 濺射靶材和透明導電薄膜
[26092-0127-0123] BiFeO3靶材及薄膜的制備方法
[26092-0102-0124] 透明導電薄膜制備所用的靶材及導電薄膜和電極制造方法
[26092-0062-0125] 鋁類靶材及其制造方法
[26092-0117-0126] 一種納米均相ITO粉制備ITO靶材的方法
[26092-0145-0127] Al-Ni-B系合金濺射靶材
[26092-0098-0128] 缺陷修補裝置及靶材結構
[26092-0089-0129] 濺鍍靶材
[26092-0022-0130] 一種LaGaO3基固體電解質靶材的制備方法
[26092-0186-0131] 一種鎳基靶材及生產工藝
[26092-0100-0132] SiOx:Si濺射靶材及其制造及使用方法
[26092-0168-0133] 濺射靶材以及由該濺射靶材所得的濺射靶
[26092-0016-0134] 磁光記錄靶材及其生產工藝
[26092-0079-0135] 用于濺射腔室的靶材和工藝套件組件
[26092-0006-0136] Ag合金膜以及Ag合金膜形成用噴濺靶材
[26092-0087-0137] 一種用于可轉動靶材濺射設備的端塊
[26092-0017-0138] 以氣噴粉末制作鋁合金濺鍍靶材的方法
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[26092-0133-0140] 反射膜或半透反射膜用的薄膜及濺射靶材以及光記錄介質
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[26092-0124-0145] 一種貴金屬靶材的修復方法
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[26092-0110-0147] 氧化鋅類的非晶質薄膜用濺射靶材及其制造方法
[26092-0187-0148] 靶材的制備方法
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[26092-0045-0152] 用于反射型平面顯示器的反射膜及濺鍍靶材的合金材料
[26092-0121-0153] 電弧離子鍍方法以及該方法中使用的靶材
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[26092-0021-0156] Co—Fe—Zr系合金濺射靶材及其制造方法
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[26092-0047-0158] 鋁合金薄膜和具有該薄膜的配線電路以及形成此薄膜的靶材
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[26092-0014-0160] 鋁合金薄膜及靶材和使用它的薄膜形成方法
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[26092-0044-0163] 鋅鋁氧化物陶瓷靶材表面背銦方法
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[26092-0137-0167] 濺鍍用方形TiW靶材表面處理工藝
[26092-0138-0168] 一種制備銅濺射靶材的方法
[26092-0130-0169] 反射膜或半透反射膜用的薄膜及濺射靶材以及光記錄介質
[26092-0143-0170] 靶材結構的制作方法
[26092-0108-0171] 含貴金屬濺鍍靶材的制作方法
[26092-0070-0172] 一種制備濺射靶材料的方法
[26092-0114-0173] 濺射靶、濺射靶材及其制造方法
[26092-0001-0174] 一種鋅鎵氧化物陶瓷靶材及其制備方法和應用
[26092-0063-0175] 銀合金、其濺射靶材料及其薄膜
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