代理ORC光源設備，ORC步進-重復垂直投影曝光設備EXP-2330，
日本ORC，光源用設備，電子電路板生產設備，步進-重復垂直投影曝光裝置；
コンタクト方式の露光技術では形成できないハイレベルの回路を形成する、非接觸式の高性能露光裝置です。
特 徴：
1.反射屈折光學系を搭載して、低色収差を実現した3波長露光：
理論上色収差が無いミラー系（反射光學系）と、大面積露光エリアの確保が容易なレンズ系（屈折光學系）との複合光學系である反射屈折光學系を搭載しています。本光學系の採用によって、色収差が極小で大面積一括露光が可能となり、g-h-i線3波長による高コントラストなパターン形成を実現します。
2.低電力?高照度の照明光學系：
専用の1kW、2kW、3kWのショートアークＵＶランプを開発し、投影照明光學系を最適化しました。各種露光工程で最適な光量を確保するため、3種のランプを選択使用する事が可能です。工程毎に必要十分な光量を確保することで、低いランニングコストを実現します。
3. XY変倍?X変倍による高いPE補正能力
基板特有のピッチエラー（PE）を精度良く補正するために、XY方向に均等伸縮補正するXY変倍機能、X方向のみに伸縮補正するX変倍機能を標準搭載。また、変倍時の像歪みを極小に抑制できる光學システムを搭載して、高いオーバーレイ精度を達成します。
4.非露光波長光源を利用した4點リアルタイム処理による高精度アライメントシステム：
基板伸縮を正確に把握し、XY変倍?X変倍を展開した高精度アライメントに不可欠な4カメラ方式によるアライメントシステムを採用。4箇所のCCDカメラで畫像を取得し、アライメント処理とXY変倍?X変倍処理をリアルタイムに一括処理します。
5.基板垂直搬送?垂直露光の縦型配置によるパーティクルフリー
パーティクルフリーを志向するラインの要求にお応えして、水平に投入された基板を裝置內にて垂直にし、基板はこのまま搬送?露光?排出まで移動します。マスクも基板も垂直に配置されているため、浮遊パーティクルによるトラブルを大幅に低減する事が可能です。
型號：EXP-2330
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