《研磨劑生產技術工藝》(168元/全套）
研磨劑生產技術工藝
01、CMP研磨劑及基板的研磨方法
02、研磨劑制造方法、其制造的研磨劑和硅晶片制造方法
03、混合研磨劑拋光組合物及其使用方法
04、研磨劑及研磨方法
05、用于化學機械拋光的二氧化鈰研磨劑
06、半導體平坦化用研磨劑
07、鈰鹽、其制造方法、氧化鈰以及鈰系研磨劑
08、研磨劑以及研磨方法
09、氧化鈰研磨劑以及基板的研磨方法
10、化學機械研磨用研磨劑及基板的研磨法
11、CMP研磨劑及基板的研磨方法
12、CMP研磨劑以及襯底的研磨方法
13、氧化鈰研磨劑以及包含該研磨劑的漿料
14、化學機械研磨用研磨劑及研磨方法
15、半導體裝置的研磨劑和用研磨劑的半導體裝置的制造方法
16、研磨劑、基片的研磨法和半導體裝置的制造方法
17、氧化鈰研磨劑以及基板的研磨方法
18、氧化鈰研磨劑以及基板的研磨方法
19、分散穩定性良好的研磨劑漿體及基板的制造方法
20、化學機械研磨劑組合及其化學機械研磨方法
21、研磨劑、研磨劑的制造方法以及研磨方法
22、一種用稻殼灰制作牙膏或牙粉研磨劑的方法及用途
23、化學機械研磨用研磨劑及基板的研磨法
24、核/殼型納米粒子研磨劑拋光液組合物及其制備方法
25、半導體用研磨劑、該研磨劑的制造方法和研磨方法
26、CMP研磨劑及基板的研磨方法
27、用于鎢和鈦的化學機械平坦化的研磨劑和組合物
28、半導體集成電路用絕緣膜研磨劑組合物及半導體集成電路的制造方法
29、半導體芯片化學機械研磨劑及其配制方法
30、研磨劑組合物、其制備方法及研磨方法
31、研磨劑、基片的研磨法和半導體裝置的制造方法
32、CMP研磨劑以及研磨方法
33、流體噴布式固定研磨劑拋光墊
34、含肽半導體用研磨劑
35、復合研磨劑及制備該復合研磨劑的組合物及方法
36、研磨劑分布系統及應用此分布系統的化學機械研磨設備
37、化學機械拋光用研磨劑
38、用來研磨晶片材料的化學-機械研磨機，以及裝在該機器上的研磨劑輸送設備
39、研磨劑用組合物及其調制方法
40、牙粉中使用的流體研磨劑懸浮液
41、鋼珠研磨劑
42、在液體靜電顯影劑制備中作為研磨劑的含酸Ａ－Ｂ嵌段共聚物
43、金剛石噴霧研磨劑
44、復印機硒鼓(P型)研磨劑和舊硒鼓修復技術
45、聚天冬氨酸鹽作為研磨劑的用途
46、氧化鈰研磨劑以及基板的研磨方法
47、研磨劑、基片的研磨法和半導體裝置的制造方法
48、無機研磨劑廢液的再生處理裝置
49、回收化學和機械平整化所用水與漿料研磨劑的方法和設備
50、超精研磨劑及其制備工藝
51、化學機械研磨用研磨劑及基板的研磨法
52、晶圓研磨用清洗劑
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