我們單位可以代工進行單面光刻
1.掩模板尺寸:4"x4“
2.基材:2”,3”,4”具平邊的晶圓或解理片
3.曝光面積:2”,3”,4”
4.汞燈光源:350W,350nm-450nm
5.顯微鏡:10x10,20x10倍
6.曝光模式:接觸式
7.對準系統:全手動正面對準,紅外光及CCD反面對準
8.分辨率:1μm
9.正面對準精度:0.2μm
新手教學


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