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    [8164-0202-0001] 用于運送物品的方法和設備
    [摘要] 在一個實施例中,車(5)具有一個配裝在第二容器(90)內的第一容器(10)并用于運送和存放集成電路基片。該集成電路基片放置在第一容器(10)內,而且第一容器(10)的門(18)被關閉并密封貼靠在門密封件(24)上。接下來,用氮氣對第一容器(10)進行清洗,以從第一容器(10)的內部排出潮氣和活性氣體。完成清洗后,接著將第一容器(10)放置在第二容器(90)內。然后,關閉第二容器(90)的門(102)并使門(102)密封貼靠到門密封件(104)上。接著,用氮氣對第二容器(90)進行清洗,以從第二容器(90)的內部排出潮氣和活性氣體。接下來,包括有集成電路基片的車(5)運送到下一加工區域。可使用本發明的車設備制造集成電路和其它物品。
    [8164-0083-0002] 半導體器件
    [摘要] 為了減少雙頻帶收發用半導體集成電路上內裝的差動低噪音放大器中每個發射極引線焊接、封裝的阻抗成分并提高增益,所以將差動放大器成對的放大器的接地腳作成彼此相鄰。并且,將相同放大器的輸入腳和接地腳作成彼此相鄰。因此,使相鄰的管腳信號成為反相,利用管腳間的變壓器耦合,降低每個晶體管發射極阻抗。
    [8164-0061-0003] 磁阻效應型元件及用它制作的磁存儲元件和磁頭
    本發明的元件含有具有以式l2(a1-zrz)2an-1mno3n+3+x表示的組成,結晶構造內具有(l—o)2層的層狀鈣鈦礦型氧化物、和夾持著層狀鈣鈦礦型氧化物并與該氧化物連接形成的一對強磁性體,通過上述(l—o)2層施加偏磁,實現了磁阻隧道效應。其中a表示從ca、sr和ba中選出的至少1種堿土類元素、l表示從bi、tl和pb中選出的至少1種元素、m表示從ti、v、cu、ru、ni、mn、co、fe和cr中選出的至少1種元素、r表示稀土類元素,n為1,2或3,x,z分別為-1≤x≤1,0≤z≤1中的值。
    [8164-0184-0004] 布線基板、其制造方法、顯示裝置和電子裝置
    [摘要] 本發明的課題是求得布線基板輕型化。在具有可安裝帶有多個電極的集成電路的安裝區域、并有應與該集成電路連接的多條基體材料一側布線形成的布線基板上,形成具有從上述安裝區域內的設定點略呈輻射狀延伸,并到達2個以上接地的基體材料一側布線的形狀的導體圖形。
    [8164-0192-0005] 異質結場效應晶體管
    [摘要] 提供一種在實現低驅動電壓化的同時,可以抑制發射極、基極之間的再結合電流的減少、提高電流放大倍率等特性的異質結場效應晶體管。在si基板10上積層si集電極埋入層11、c含有率高的sigec層構成的第1基極區域12、c含有率低的sigec層或者sige層構成的第2基極區域13、包含發射極區域14a的si空隙層14。第2基極區域的至少發射極區域側端部,c含有率不到0.8%。因此,在發射極、基極結合部的耗盡層中,可以抑制由c引起的再結合中心的形成,維持低驅動電壓性,通過降低再結合電流,實現對電流放大倍率等電特性的改善。
    [8164-0111-0006] 具有疊放組件的電子部件及其制造方法
    [摘要] 本發明涉及具有疊放組件(1-n)的一種電子部件及其制造方法。每個組件(1-n)具有一個芯片(c1至cn)。每個芯片(c1至cn)被安裝在一個疊放中間面(z1至zn)上。疊層的疊放中間面(z1至zn)具有相同的布局,在芯片(c1至cn)上設有可通過接觸面(cs1至csn及cs11至csnn)進行不可逆地調整的芯片選擇電路(a1至an),該電路可使接觸面(cs1至csn)及(cs11至csnn)不可逆地配置給疊放中間面(z1至zn)。
    [8164-0109-0007] 半導體裝置及其制造方法
    [摘要] 以印刷電路板、陶瓷板、軟性板等作為支持基板裝配半導體元件的bga型的半導體裝置。但這些支持基板是多余的,支持基板的厚度使半導體裝置大型化,并使組裝到其中的半導體元件難于放熱。本發明通過將導電圖形11a~11d埋入到絕緣性樹脂10中而且導電箔20進行半蝕刻后而形成,使其厚度充分薄。由于設置了放熱用的電極11d,可提供放熱性能優異的半導體裝置。
    [8164-0190-0008] 雙極晶體管、半導體發光元件和半導體元件
    [摘要] 在gaas系半導體元件中,通過使用inpga1-pn(0<p≤1),來形成能隙差較大的異質結,而提供高性能的半導體元件。
    [8164-0007-0009] 存儲器
    [摘要] 本發明的課題是提供既可迅速地進行使記憶內容反轉的寫入、又可減少不需要的功耗的存儲器。晶體管mn9、mn10串聯連接在節點n1與寫入位線41之間。騫躆n9、mn10的柵分別與寫入控制線44和寫入字線31連接。寫入控制線44供給與寫入位線41、互補寫入位線42的“異或”運算值相當的電位。通過預先將寫入工作中不使用的寫入位線41、互補寫入位線42預充電為相同的電位,晶體管mn9關斷。
    [8164-0178-0010] 形成端面電極的方法
    [摘要] 這里提供了一種形成端面電極的方法,其中,采用焊料、端面電極可以安全地形成在側電極形成的位置,而且其形成不受起固定焊料固體作用的夾具的影響。通過在主襯底上形成線性縫隙,形成模塊襯底和廢襯底。在模塊襯底縫隙的側端上,形成側電極。將焊料固體壓入縫隙部分,在此部分側電極形成并且放置回流夾具。用焊劑覆蓋焊料固體的表面,通過加熱熔化焊料固體以在側電極上形成從襯底表面凸起的端面電極。
    [8164-0094-0011] 清洗半導體晶片的方法和裝置
    [8164-0074-0012] 處理光束的方法、激光照射裝置以及制造半導體器件的方法
    [8164-0077-0013] 半導體載體上印刷凸塊的制造方法
    [8164-0069-0014] 量子規模電子器件及其工作條件
    [8164-0092-0015] 磁阻元件
    [8164-0028-0016] 減少可移動物質從金屬氧化物陶瓷的擴散
    [8164-0055-0017] 半導體裝置的封裝組裝裝置及其制造方法
    [8164-0089-0018] 表面裝配型發光二極管及其制造方法
    [8164-0157-0019] 集成mos力敏運放壓力傳感器用的力敏運算放大器器件
    [8164-0049-0020] 半導體器件的制造方法
    [8164-0046-0021] 高分子半導體場效應晶體管
    [8164-0198-0022] 模制的塑料電子組件用的導線框架的防濕層
    [8164-0154-0023] 半導體裝置及其制造方法
    [8164-0166-0024] 微電子結構的制法
    [8164-0132-0025] 半導體裝置及其設計方法和設計裝置
    [8164-0017-0026] 用于長久保持記憶力的低印記鐵電材料以及制作此材料的方法
    [8164-0140-0027] 用于存儲信息的微電子器件及其方法
    [8164-0050-0028] 用于半導體封裝處理的具有可注入導電區的帶及其制造方法
    [8164-0040-0029] 多層印刷電路中的層壓品
    [8164-0185-0030] 多芯片組件
    [8164-0136-0031] 壓電陶瓷材料、燒結的壓電陶瓷壓塊和壓電陶瓷器件
    [8164-0004-0032] 無電鍍形成雙層以上金屬凸塊的制備方法
    [8164-0181-0033] 陶瓷多層基片上的表面電極結構及其制造方法
    [8164-0144-0034] 光電器件
    [8164-0204-0035] 加工半導體晶片用的壓力噴射機及方法
    [8164-0025-0036] 具有至少一個被絕緣層覆蓋的、采用高壓超導材料的印制導線的電阻性限流器
    [8164-0171-0037] 包含太陽能電池的電子裝置的顯示器
    [8164-0169-0038] 具有基片觸點和多晶硅橋接單元的半導體只讀存儲裝置
    [8164-0117-0039] 倒置型發光二極管
    [8164-0118-0040] 一種分子整流器及其制作工藝
    [8164-0014-0041] 具有三端性能的兩端器件
    [8164-0051-0042] 半導體器件的制造方法
    [8164-0103-0043] 采用teos源pecvd生長氧化硅厚膜的方法
    [8164-0002-0044] 半導體器件及其制造方法、電路襯底及電子儀器
    [8164-0086-0045] 基于調整陰極導電率的超高密度信息存儲器
    [8164-0216-0046] 集成電路用電容元件的制造方法
    [8164-0100-0047] 晶體半導體材料的制造方法以及制造半導體器件的方法
    [8164-0174-0048] 半導體芯片安裝設備
    [8164-0008-0049] 半導體器件及其制造方法
    [8164-0175-0050] 半導體芯片的安裝方法和安裝設備
    [8164-0162-0051] 可見光發光二極管的沉積制造方法
    [8164-0137-0052] 半導體晶片磨光的方法和系統
    [8164-0215-0053] 接觸構件及其生產方法以及采用該接觸構件的探針接觸組件
    [8164-0205-0054] 非易失存儲器
    [8164-0078-0055] 制造微電子器件的方法和微電子器件
    [8164-0203-0056] 多官能硅基低聚物/聚合物納米孔二氧化硅薄膜的表面改性中的應用
    [8164-0030-0057] 用于拋光晶片的載體的儲存方法
    [8164-0054-0058] 薄翼型散熱器及其制造方法
    [8164-0037-0059] 用于半導體處理室的室襯
    [8164-0088-0060] 光電裝置及制造方法
    [8164-0155-0061] 半導體裝置及其制造方法,電路基板及電子設備
    [8164-0159-0062] 發光器件及其制造方法和薄膜形成裝置
    [8164-0034-0063] 層疊式電子零件及其制造方法以及二維陣列狀元件實裝結構及其制造方法
    [8164-0041-0064] 半導體裝置及其制造方法和電子裝置
    [8164-0081-0065] 包括表面彈性波元件的射頻模塊部件及其制造方法
    [8164-0179-0066] 半導體基片品質評價的方法和裝置
    [8164-0102-0067] 場效應晶體管的制造方法
    [8164-0006-0068] 半導體存儲裝置的驅動方法
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    [8164-0209-0070] 半導體處理系統及其控制濕度的方法
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