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[5753-0159-0001] 真空離子鍍膜機
[摘要] 本實用新型涉及一種可對大面積板材進行真空離子鍍膜的設備，包括真空鍍膜室，傳動裝置，密封門，真空機組，真空鍍膜室包括第一鍍膜區和設置在第一鍍膜區左右兩端并與第一鍍膜區相通的左傳動區和右傳動區，在第一鍍膜區內有多個離子發射源，傳動裝置設置在左傳動區和右傳動區內。本實用新型一次抽真空可完成一次鍍膜作業，且作業時間縮短，成品顏色豐富且一致性好，可對大面積板材進行鍍膜作業，解決了背景技術中真空離子鍍膜機彩板尺寸小、作業效率低、成品顏色一致性差的技術問題。
[5753-0173-0002] 一種磁控濺射靶
[摘要] 本實用新型公開一種磁控濺射靶。由水冷靶材和可移動的磁體組成平面靶或圓柱靶結構；平面靶結構中磁體通過滾動軸承與水冷背板安裝在一起，電機通過傳動盤驅動金屬板和固定其上的磁體一起運動；圓柱靶結構中磁體套在不銹鋼管上安裝在圓柱靶內，置于冷卻水中，并通過連接機構與電機相連。本實用新型采用了移動磁體技術，通過對普通磁控濺射平面靶和圓柱靶磁體的改進，使其磁體在濺射鍍膜過程中能夠移動，從而使靶材表面的刻蝕區域更寬，刻蝕更均勻，靶材的利用率有明顯的提高，同時保留了磁控濺射工藝的優點，而沒有影響其工藝性能；本實用新型還具有結構簡單，性能可靠，易操作等特點，可顯著提高靶材的利用率，具有廣泛的應用領域。
[5753-0019-0003] 蒸發磁控真空鍍膜機
本實用新型涉及一種真空鍍膜機。它是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門，而在其中配裝蒸發裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。本實用新型設置單室雙門的結構，可滿足多膜系，多鍍膜工藝的需要，使工作效率顯著提高，適于各種金屬和非金屬材料的鍍膜之用。
[5753-0036-0004] 一種具有前后穩壓排氣裝置的網帶式連續滲碳爐
[摘要] 本實用新型涉及一種金屬熱處理爐的改進發明，在爐體(10)上設有進料口(9)和出料滑道(11)，在爐體內設有網帶(1)、密封槽(8)和加熱區并在爐體的后部設有淬火槽(14)，所述密封槽內置有密封液(7)，在爐體上設有前后穩壓排氣罐(6)(6’)，所述前后穩壓排氣罐上設有排氣管(4)(4’)，并在排氣管上設有調壓閥(5)(5’)，所述后穩壓排氣罐上設有排廢管(12)，并通過管道(13)與出料滑道相連接。本實用新型解決了一般網帶式連續滲碳爐爐氣氛不均勻性、爐氣壓力和成分的不穩定性，以及爐體受外界因素干擾的弊病，從而達到制氣介質的消耗量少，爐壓和爐氣的穩定性及產品質量得到提高的有效目的。
[5753-0048-0005] 低成本微等離子金屬表面強化處理裝置的電源功率放大器
[摘要] 低成本微等離子金屬表面強化處理裝置的電源功率放大器，它是對微等離子金屬表面強化處理裝置的電源功率放大器的改進。它包含處理裝置(1)，它還包含二個igct高頻開關管k＃-［g］、k＃-［h］，k＃-［g］的正極接直流電源+v＃-［1］，k＃-［g］的負極接k＃-［h］的正極，k＃-［h］的負極接直流電源v＃-［2］，k＃-［g］的負極和k＃-［h］的正極都接微等離子表面強化處理裝置(1)中的金屬工件(2)，k＃-［g］、k＃-［h］的控制極g、h分別接控制脈沖信號源v＃-［g］、v＃-［h］，微等離子表面強化處理裝置(1)的不銹鋼槽(3)接地。本實用新型可以實現1000赫以上的開關頻率和1000—2000v幅值的輸出電脈沖，它完全能夠適應微等離子金屬表面強化處理裝置對高頻脈沖電源的要求，而且它還具有成本低的優點。
[5753-0011-0006] 螺栓熱浸鍍鋅余鋅甩除自動離心機
[摘要] 本實用新型涉及一種能將螺栓熱浸鍍件中的余鋅除凈的螺栓熱浸鍍鋅余鋅甩除自動離心機，由調速電機、軸承、轉動軸、調速電機、托盤組成，托盤上設有芯藍，在芯藍外設有容器，容器上設有鍍件進口，在容器下部設有滑道，其上設有噴頭并與水冷卻池連通，具有余鋅易除凈、鍍層均勻、厚度和鍍鋅質量過標、效率高、省工省力的優點，適于在螺栓熱浸鍍鋅中使用。
[5753-0119-0007] 高頻電火花涂覆裝置
[摘要] 本裝置屬于一種高頻電火花涂覆裝置，該裝置由脈沖電源、可編程序控制器及其輸入輸出部件、振動頭組成，其中脈沖電源由cmos集成電路主振級、v-mos場效應管v58推動級、8個v-mos大功率管功率級組成，其中正極接石墨電極，負極接工件，其聯接是前面為主振級，由cmos集成電路構成，其輸出聯接推動級，推動級電路由場效應管v58組成，推動級的輸出與功率級相接，功率級由大功率場效應管v50組成，且為8路并聯輸出，功率級輸出聯接電極，電極直接與加工機件接觸。優點：結構簡單，采用大功率均效應管，放電頻率高，單個脈沖能量小，激光涂覆加工件表面質量高，是一種較為理想的涂覆機供電設備。
[5753-0184-0008] 一種高效除碳裝置
[摘要] 本實用新型公開了一種高效除碳裝置，包括箱體、箱門及進出口，箱內分成兩個以上的區，其中至少有一個區由具有一定斜度的隔板組成，斜度小的隔板積存大顆粒的碳粒，斜度大的隔板積存小顆粒的碳粒，上述最后一個隔板區的下方設有一過濾網，與最后一個隔板區相連的為靜電除塵區，內設有靜電除塵裝置，用于捕捉u級碳粒，箱體外設有冷卻水套。本實用新型裝置具有使設備維修周期加長、濾網及靜電裝置不會因大顆粒的阻塞而很快停用、可有效判斷濾網必須維護的時間、方便的進行設備內維護、完全避免了污染閥門及泵等優點。本實用新型裝置主要用于低壓滲碳熱處理爐。
[5753-0024-0009] 一種沉積高質量薄膜低溫等離子體裝置
[摘要] 本實用新型涉及一種沉積高質量薄膜低溫等離子體裝置，包括陰極弧等離子體源、真空靶室，陰極弧等離子體源與真空靶室之間通過磁螺旋管相連，在磁螺旋管內設有螺旋線圈，在磁螺旋管外設有磁場；本實用新型可過濾陰極弧等離子體中的顆粒團和中性大粒子，僅留下質量和能量相對均勻的純離子，并減少了等離子體的損失，使沉積形成的薄膜表面光滑，缺陷少，沉積溫度低，與襯底結合良好，質量高并容易控制，并可在室溫下制備出質量優異的薄膜材料。
[5753-0178-0010] 鐵路軸承套圈滲碳用套裝支架
[摘要] 本實用新型屬于軸承熱處理用裝置。提出的鐵路軸承套圈滲碳用套裝支架主要由水平三歉艏?1)和三個豎直支桿(2)構成，三個支桿(2)分別固定在三角隔架的三個夾角處。本實用新型將軸承外套圈和內套圈套裝在一起，同時對其進行熱處理滲碳，使裝爐大幅度增加，大大降低了能耗。
[5753-0101-0011] 一種程控電脈沖型多功能離子轟擊爐
[5753-0111-0012] 水浴加熱化學鍍設備
[5753-0199-0013] 低輻射膜玻璃生產的磁控濺射設備
[5753-0097-0014] 采用渦流加熱靶材的共蒸發制備薄膜的裝置
[5753-0118-0015] 一種化學汽相沉積裝置
[5753-0177-0016] 鐵路軸承套圈滲碳用組合架
[5753-0221-0017] 一種光學鍍膜設備
[5753-0087-0018] 真空井式無罐離子滲碳多用爐體
[5753-0145-0019] 真空用磁流體密封傳動送片機構
[5753-0089-0020] 蒸鍍裝置
[5753-0033-0021] 具有粉末滲鋅層的型鋼
[5753-0149-0022] 一種制備無機化合物薄膜的裝置
[5753-0022-0023] 焊絲化學鍍銅設備
[5753-0016-0024] 濺鍍裝置
[5753-0137-0025] 一種金屬線材的熱鍍設備
[5753-0059-0026] 中心架調節式離心制管機
[5753-0133-0027] 超高真空化學氣相沉積裝置
[5753-0072-0028] 一種立式多層陶瓷薄膜沉積裝置
[5753-0090-0029] 真空鍍膜系統中真空室觀察窗的轉動檔板
[5753-0202-0030] 化學氣相共沉積與滲透先驅體自動供給裝置
[5753-0091-0031] 視線外磁過濾金屬蒸氣真空弧等離子體沉積源
[5753-0140-0032] 一種控制帶鋼鍍層表面鋅花形態的裝置
[5753-0168-0033] 沉積環及應用此沉積環的支撐裝置
[5753-0025-0034] 一種列管式熱鍍鋅鍋
[5753-0009-0035] 一種熱浸鍍鋅鍋
[5753-0109-0036] 連續式蒸鍍濺鍍機
[5753-0204-0037] 熱浸鍍鋅的浸鍍作業裝置
[5753-0082-0038] 一種硬質合金表面的超硬涂層
[5753-0052-0039] 投影管蒸鋁加熱裝置
[5753-0037-0040] 絕熱式等離子體金屬表面處理裝置
[5753-0084-0041] 鍍膜設備
[5753-0158-0042] 熱燈絲化學氣相沉積裝置中的加熱器
[5753-0219-0043] 真空鍍膜機用多路閥
[5753-0092-0044] 高反射鏡連續磁控濺射鍍膜生產設備
[5753-0039-0045] 一種電感耦合射頻等離子體輔助鎢絲加熱制備薄膜的化學氣相沉積裝置
[5753-0076-0046] 柱型封閉式鉬舟
[5753-0181-0047] 配屏幕電弧的多功能離子鍍膜裝置
[5753-0157-0048] 一種塑料薄膜鍍鋁真空腔
[5753-0060-0049] 陶瓷內襯彎頭制造設備
[5753-0067-0050] 光學薄膜厚度在線實時監控儀
[5753-0208-0051] 一種生產高阻隔真空鍍鋁薄膜的設備
[5753-0070-0052] 滾珠全方位離子注入與沉積表面強化處理裝置
[5753-0098-0053] 利用電流直接加熱靶材蒸發制備大面積薄膜的裝置
[5753-0130-0054] 多功能卷繞鍍膜機
[5753-0083-0055] 真空鍍膜機循環裝片裝置
[5753-0217-0056] 雙離子束共濺射淀積原子層納米薄膜設備
[5753-0034-0057] 網帶式連續滲碳爐進料口密封裝置
[5753-0038-0058] 永磁式平面磁控濺射靶
[5753-0029-0059] 碳鋼滲鋁件
[5753-0054-0060] 吹管式內吹機
[5753-0154-0061] 納米離子低溫鍍制金剛石膜鍍膜機
[5753-0183-0062] 輝光離子氮化爐真空爐體壓力閉環自動控制裝置
[5753-0210-0063] 內壁鍍膜介電管的真空鍍膜設備
[5753-0122-0064] 電磁封流連續熱鍍鋅裝置
[5753-0192-0065] 二氧化錫透明導電膜的制造裝置
[5753-0188-0066] 雙面濺射真空卷繞連續鍍膜設備
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[5753-0051-0068] 鍍鋅爐
[5753-0064-0069] 氧化鋅薄膜生長用金屬有機化合物汽相淀積設備
[5753-0023-0070] 化學鍍鎳液的再生處理裝置
[5753-0136-0071] 閉合式電子漂移型氣體離子源
[5753-0197-0072] 雙面一次成膜真空離子濺鍍機
[5753-0166-0073] 雙層介質阻擋放電等離子體反應器
[5753-0104-0074] 化學氣相沉積金剛石聚晶金剛石復合型金剛石制品
[5753-0017-0075] 一種用于沉積制備薄膜的裝置
[5753-0030-0076] 制備泡沫導電膜的卷繞式真空鍍膜機
[5753-0124-0077] 新型的大型工業化合成等離子滲硫爐
[5753-0014-0078] 在硅基萬能襯底上生長多層異質外延薄膜
[5753-0044-0079] 螺紋聯接式硬脆合金靶
[5753-0106-0080] 防腐涂層
[5753-0088-0081] 植化膜層金屬板
[5753-0006-0082] 多靶磁控濺射卷繞鍍膜機
[5753-0073-0083] 多功能熱浸鍍模擬裝置
[5753-0179-0084] 隧道式超真空鍍膜機
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[5753-0062-0089] 鋼絲鍍層抹制器
[5753-0147-0090] 一種等離子熱絲法化學氣相沉積金剛石膜的裝置
[5753-0057-0091] 多離子束共濺射淀積納米膜裝置
[5753-0161-0092] 一種離心式余鋅清除機
[5753-0007-0093] 晶體振蕩器探頭支撐結構
[5753-0128-0094] 真空鍍膜的線狀掩膜具
[5753-0010-0095] 一種陶瓷薄膜沉積裝置
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[5753-0046-0099] 具有中頻反應濺射二氧化硅的氧化銦錫玻璃在線聯鍍裝置
[5753-0005-0100] 多元合金多功能鍍膜
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[5753-0127-0106] 中頻感應滲碳爐
[5753-0187-0107] 一種卷繞式鋁-鋅鋁真空鍍膜機
[5753-0213-0108] 一種雙懸臂式離心制管機
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