該機器適用於光化學、高分子材料老化、探傷、紫外光源、植物栽培、大規模集成電路光刻等領域的紫外輻照度測量工作。
(1)UV-365探頭
λ:(320~400)nm; λP=365nm
(2)UV-420探頭
λ:(375~475)nm; λP=420nm
(0.1~199.9×103)μW/cm2
UV365 小於0.02%
UV420 小於0.02%
±10%
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該機器適用於光化學、高分子材料老化、探傷、紫外光源、植物栽培、大規模集成電路光刻等領域的紫外輻照度測量工作。