日本ORC，光源用設備，直接曝光裝置，光繪裝置；
獨自光學系の実用化で高速?高精度描畫を実現
フォトマスク自動描畫システム(フォト?プロッターシステム）「LPP-3880」は、従來のレーザー?スキャニング方式やマルチアレイ方式のドット(點）による描畫方式に代わり、二次元表示素子を用いた獨自の光學系を実用化したスクエア(面）による描畫方式を採用することで高速、極細、高品質のパターン描畫を実現。
多様化する電子部品のフォトマスクの生産性向上に大きく寄與することができる高性能なシステムです。
描畫スピードが、走査ピッチ5μmで３分、同2.5μmで５分（いずれも20 x 24インチ時）という業界最高速レベルで、當社従來比では２倍～３倍のスピードアップとなっています。最小線幅は10μmの極細パターン描畫、位置決め精度は±7.5μm、線幅精度は±2μmを実現。高精度、高品質のマスク描畫の実現により、従來はよりハイクラスのプロッタでしかマスク描畫できなかったBGA、CSP、高多層PWBなどの超ファイン描畫にも十分対応できます。
光源には紫色レーザーダイオードを採用し、ますますファイン化が進む傾向の電子部品のフォトマスク製造に対応しています。描畫テーブルはフィルム／ガラス乾板両用の當社獨自のフラットベッドタイプなので、使用感材や付帯設備環境を変更する必要がありません。さらに、既設システムとのデータ共有化や、フィルム自動供給裝置( AFL )や各種ソフトウェア搭載による自動化を図っています。
特 徴：
高速?極細?高品質パターン描畫の実現：
二次元表示素子を使用した獨自の光學系の実用化により、基板サイズ20 x 24インチ時に、走査ピッチ5μmで３分、同 2.5μmで５分という、業界最高レベルの描畫速度を実現しました。當社従來比では２倍～３倍のスピードアップとなります。また、最小線幅10μmの極細パターン描畫を可能にして電子部品の高品質化に対応、さらに±7.5μmの位置決め精度、±2μmの線幅精度を実現し、高品質のフォトマスク描畫が可能です。
光源に紫色レーザーダイオード( LD )を採用：
短波長域（405nm）の紫色レーザーダイオードを光源に採用し、ますますファイン化する傾向の電子部品のフォトマスク製造に対応しています。
フラットベッドテーブル：
現在使用されているラス系のフィルムおよびガラス乾板がそのまま使用できるフラットベッドテーブルを採用しており、使用感材や付帯設備環境を変更する必要がありません。
既設システムとの統合：
當社の「CAM station」（各種CADから出力される多様なデータを、製造工程で使用可能な最適データに検証?修正?加工するための製造用データ編集システム）とデータベースを共有化していますので、既設システムを生かした統合システム環境を構築することができます。
自動化によるトータルコスト削減：
２種類のフィルムサイズから自動的に１種類を選択し描畫テーブルへ供給するフィルム自動供給裝置（AFL）、フォトマスク描畫をコントロールするスプール機能やスケジューリング機能のソフトウェア搭載などにより自動化を実現し、トータルコストの削減に寄與します。
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