| AE-100M | |||||
| 產品用途 | |||||
| 結合光學顯微鏡與白光幹涉儀功能的掃描式白光幹涉顯微鏡，結合顯微物鏡與幹涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測。應用領域包含：玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。 | |||||
| 產品特點 | |||||
| ● 奈米深度3D檢測 ● 高速/無接觸量 ● 表面形狀/粗糙度分析 ● 非透明/透明材質皆適用 ● 非電子束/非雷射的安全量測 ● 低維護成本 | |||||
| 專業級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo） | |||||
| ● 提供多功能又具親和接口的3D圖形處理與分析 ● 提供自動表面平整化處理功能 ● 提供高階標準片的軟件自校功能 ● 深度/高度分析功能提供線型分析與區域分析等兩種方式 ● 線型分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Rorghness）與起伏度 ● （waviness）的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數與4種額外量測數據（Wafer） ● 區域分析方式提供圖形分析與統計分析 ● 具有平滑化、銳化與數字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能 ● 量測分析結果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出 | |||||
| 高速精密的幹涉解析軟件(ImgScan) | |||||
| ● 系統硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光幹涉條紋 ● 垂直高度可達0.1nm ● 高度的分析算法則，讓你不在苦候測量結果 ● 垂直掃描范圍的設定輕松又容易 ● 有10x、20x、50x倍率的物鏡可供選擇 ● 平臺XYZ位置數顯示，使檢標的尋找快速又便利 ● 具有手動/自動光強度調整功能以取得最佳的幹涉條紋對比 ● 具有高精度的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇 ● 具有專利的解析算法則可處理半透明物體的3D形貌 ● 具有自動佈補點功能 ● 可自行設定掃描方向 | |||||
| 技術規格參數 | |||||
| 型號 | AE-100M | ||||
| 移動臺(mm) | 平臺尺寸100*100 ，行程13*13 | ||||
| 物鏡放大倍率 | 10x | 20x | 50x | ||
| 觀察與量測范圍 | 0.43*0.32 | 0.21*0.16 | 0.088*0.066 | ||
| 光學分辨力(um) | 0.9 | 0.69 | 0.5 | ||
| 收光角度(Degrees) | 17 | 23 | 33 | ||
| 工作距離 | 7.4 | 4.7 | 3.4 | ||
| 傳感器分辨率 | 640*480像素 | ||||
| 機臺重量(kg)/載重kg | 20kg/小於1kg | ||||
| Z軸移動范圍 | 45mm , 手動細調 | ||||
| Z軸位置數字顯示器 | 分辨率1um | ||||
| 傾斜調整平臺 | 雙軸/手動調整 | ||||
| 高度測量 | |||||
| 測量范圍 | 100（um)(400um ,選配) | ||||
| 量測分辨力 | 0.1mm | ||||
| 重復精度 | ≤ 0.1％ (量測高度:>10um) ≤10um(量測高度1um 10um) ≤ 5nm(量測高度:<1um ) | ||||
| 量測控制 | 自動 | ||||
| 掃描速度(um/s) | 12(最高) | ||||
| 光源 | |||||
| 光源類型 | 儀器用鹵素（冷）光源 | ||||
| 平均使用壽命 | 1000小時100W 500小時（150W） | ||||
| 光強度調整 | 自動/手動 | ||||
| 數據處理與顯示用計算機 | |||||
| 中央處理運算屏幕 | 雙核心以上CUP | ||||
| 影像與數據顯示屏幕 | 17 " 雙晶屏幕 | ||||
| 操作系統 | Windows XP(2) | ||||
| 電源與環境要求 | AC100 --240 V 50-60Hz | ||||
| 環境震動 | VC-C等級以上 | ||||
| 測量分析軟件 | |||||
| 量測軟件ImgScan | 具VSI/ PVS/PSI 量測模式（PSI量測模式需另選配PSI模塊搭配） | ||||
| 分析軟件PosTopo | ISO 粗燥度/階高分析，快速傳利葉轉換和濾波，多樣的2D和3D | ||||
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