該設備利用頻率為2.45GHz的微波激勵稀薄氣體放電，從而產生等離子體。真空反應室為Φ50mm的石英管腔體。放置樣品的基片臺可以方便地在反應腔體內上下升降調節。

基片臺位於石英管反應腔體的中心，該基片臺除瞭基本的上下升降功能外，同時具有水冷控溫的功能，雙層水冷支架與基片臺可方便地拆卸與維護，即使樣品以不同的形態（片狀、塊狀、粉末狀等）出現，更換或改裝基片臺也十分方便。

石英管反應腔兩端有雙層水冷套作降溫保護，端口以不銹鋼部件固定並密封（加橡膠）石英腔體，以確保反應腔的安全穩定工作。

該設備的真空系統采用2XZ-2型旋片真空泵，極限真空6×10－1帕，抽速2升/秒，額定轉速1400轉/分，機械泵與真空室之間設置有電磁閥和高真空隔膜閥，旁路管道設置另一隔斷閥（高真空微調閥），以便於真空系統運行安全及工作時反應氣體壓強的靈活控製。真空密封采用金屬和橡膠密封，通常：相對不動介面采用金屬銅密封，相對可動介面采用橡膠密封。

真空測量采用數字壓阻式真空計，用來測量反應腔內的工作氣壓。

主要電氣配置：

1) 真空泵：2XZ-2型旋片真空泵采用單相220V交流電源，對實驗室電源無特殊要求。

2) 磁控管：采用工業上通用的磁控管，該磁控管具有使用壽命長、可靠性高的特點，維護方便。

3) 真空計：采用壓阻式真空計，用於測量工作時的工作氣壓。

4) 溫控機：用於冷卻水循環系統中的製冷及水溫控製。

5) 500W微波功率源：通過調節磁控管陽極電壓的方法調節微波功率的輸出，利用簡單、可靠、易維護的電路實現微波功率的連續可調輸出。

6) 冷卻水：裝置自帶循環冷卻水，對實驗室無水源要求，既節水又方便。

二、技術參數及特性1. 反應室工作壓強：幾百帕～十千帕

2. 反應室極限壓強: 6×10－1帕3. 反應室尺寸： Φ50mm

4. 微波功率： 0～500W5. 基片溫控： 200～1000℃

外形尺寸 1.4*1.5*0.6立方米（mm）
測量范圍 0.500W（Ω）