品名：鉻靶（Cr Target）

規格：各種尺寸加工定制（可倒斜角），

純度：>99.5 %、99.9%；

表麵：拋光、磨光；

用途：主要用於STN、tft、Ai、TP等磁控濺射鍍膜；也用於制不銹鋼，汽車零件，工具，磁帶和錄象帶。

鉻靶

元素符號Cr，銀白色金屬，在元素周期表中屬
ⅥB族，鉻的原子序數24，原子量51.996，體心立方晶體，常見化合價為+3、+6和+2。
 銀白色金屬，質極硬，耐腐蝕。

密度：7.20克/cm3。

熔點：1857±20℃，

沸點：2672℃。

金屬鉻在酸中一般以表麵鈍化為其特征。一旦去鈍化後，即易溶解於幾乎所有的酸中。在高溫下被水蒸氣所氧化，在1000℃下被一氧化碳所氧化。在高溫下，鉻與氮起反應並被堿所侵蝕。可溶於強堿溶液。鉻具有很高的耐腐蝕性，在空氣中，即便是在赤熱的狀態下，氧化也很慢。不溶於水。鍍在金屬上可起保護作用。

物理性質：

鉻是銀白色有光澤的金屬，純鉻有延展性，含雜質的鉻硬而脆

金屬鉻; 鉻(微晶); 鉻粉; 鉻粒; 鉻片; 鉻單晶片;

鉻濺射耙材

鉻靶的尺寸

尺寸01：直徑<360mm   厚度>1mm （圓片/圓臺/圓棒）；

尺寸02：長度<300mm  寬度<300mm  厚度>1mm   矩形/片材/臺階狀(可拼接）；

尺寸03：外直徑<360mm  內直徑>1mm  壁度>1mm  長度>1mm（管材/圓環/旋轉靶材）
鉻靶的用途
工業級鍍膜，實驗或研究級別用鉻靶材，電子，光電，軍用，裝飾，功能薄膜等

新手教學

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